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二階段力量釋放

二階段力量釋放

A complex, two-step Japanese prompt for transforming a character's pose into an 'Awakening Stance' and then generating a 'Power Release' effect, where energy spheres expand and the ground/walls are dramatically excavated or destroyed. It uses structured JSON-like input for precise control over composition, action, and style, requiring a reference image of the character.

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【覺醒姿勢提示詞】
subject: >
  使用與參考 A 相同的角色。
  保持所有面部特徵、髮型、服裝、身體比例、顏色、
  線條粗細、陰影和藝術風格完全與參考一致。

composition: >
  重要:更改參考的構圖。
  鏡頭必須放置得**遠得多**,以便角色的整個身體
  **完全可見,且角色上方、下方和周圍有額外的空間**。
  角色必須看起來比參考 A **明顯更小**,
  僅佔據大約 **20–30% 的畫面高度**。
  將角色精確地放置在畫面中央,周圍留有寬敞的空間
  以供後續的能量效果使用。
  視野應明顯比參考寬。
  最終圖像必須以 **16:9 畫面比例**渲染。

action: >
  將角色設定為參考 B 所示的覺醒姿勢:
    - 雙腳與肩同寬站立
    - 雙手緊握成拳
    - 雙臂微微彎曲並緊繃
    - 胸部微微前挺,姿勢堅定且穩固
    - 強烈、專注的表情

location: >
  重用與參考 A 相同的背景環境。
  **顯著地**擴展背景的可見部分
  以匹配擴大、拉遠的構圖。
  保持相同的紋理、透視、顏色和繪畫風格。

style: >
  匹配參考 A 的確切風格:
  相同的線條、陰影、著色和背景渲染。

camera_lighting: >
  使用與參考 A 相同的照明條件。

edit_instructions: >
  精確地重新創建參考 A 中的角色和背景。
  但要修改鏡頭距離,使整個角色都容納在畫面內,
  且周圍有**充足的空間**。
  鏡頭應拉得足夠遠,使角色在一個寬廣得多的環境中顯得渺小。
  僅更改:
    - 鏡頭距離(強烈拉遠)
    - 角色的姿勢

機器翻譯 — 實際產出作品的是原文 prompt。

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如何使用這個 prompt

複製 prompt 貼進 Nano Banana Pro。構圖、光線與風格詞請照原文保留,那是產出這個結果的關鍵;換掉主體或場景細節讓它變成你的,比例維持不變,若 prompt 提到參考圖就一併附上。多生成兩三次,最好的版本通常不是第一張。